5月15日消息，目前，大多数最先进的手机和计算机芯片都使用EUV极紫外光进行蚀刻，但是这种光很难被反射和折射，并且在制造过程中的损耗率非常高。 根据国外媒体TheElec的消息，ASML今年将开始为光刻机提供一种新型的EUV保护膜，其透光率达到90.6%，并将很快开始生产。

国外媒体表示，这种保护膜主要用于安装在EUV光路和晶圆制造空间之间，以防止灰尘进入。以前的保护膜的透光率仅为78%，但一件的价格却高达26,000美元(约合人民币167,400元)三星和台积电目前并未使用这种保护膜来提高生产效率，尽管这会增加污染晶片表面的风险。两家铸造厂此前曾表示，在考虑将其应用于生产线之前，他们需要一种透光率大于90%的保护膜。

ASML宣布，该EUV保护膜可承受400W的功率，并将由日本制造商三井化学制造。